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    高真空R2R镀锂机
    设备特性：

    高真空环境下完成锂原子沉积，均匀性更好，纯度与致密度更优

    行业首创真空舱内离子钝化单元，可根据客户要求定制钝化层

    独创热辊压加辐照单元，在补锂应用中促使补锂与硅碳充分结合

    可选配镀前镀后锂电智能制造单元模块，适配前后道工序工艺优化

    沉积过程锂的利用率≥85%

    标准配置：

    1. 双辊双面沉积卷绕

    2. 卷绕过程自动纠偏系统

    3. 设备内部环境自动监测系统

    4. 便捷式快速更换蒸发单元

    5. 断带自清洁单元

    可选配置：

    沉积前后阳离子预处理单元

    沉积前后原子热加速单元

    沉积前后阴极靶溅射单元

    沉积后离子加速钝化单元

    沉积后热辊压辐照单元

    沉积前后锂电智造单元模块

    设备参数：

    项目

    参数

    机械速度

    Max 50m/min

    材料

    铜箔/极片/高分子材料/三维集流体

    材料宽幅

    100-1200mm

    镀锂厚度

    0-20μm

    均匀性

    ±5%

    收卷长度

    Max 5000m

    锂利用率

    ≥85%

    工艺兼容性

    陆续在式和多条幅式